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簡(jiǎn)要描述：專(zhuān)用電子束光刻系統(tǒng)這些創(chuàng)新、智能配置的電子束光刻系統(tǒng)可以輕松有效地實(shí)現(xiàn)納米加工。所有 Raith EBL 系統(tǒng)都配備了高精度激光干涉儀平臺(tái)和圖案發(fā)生器，可為您的工作提供Z高的精度和速度。其他功能（例如traxx 和 periodixx、無(wú)拼接錯(cuò)誤曝光模式以及Nanosuite（直觀且全面的納米光刻軟件） ）使 Raith 的系統(tǒng)有別于其他納米光刻設(shè)備。聯(lián)系我們討論哪種系統(tǒng)適合您的需求。
產(chǎn)品型號(hào)：廠商性質(zhì)：經(jīng)銷(xiāo)商更新時(shí)間：2024-07-10訪 問(wèn) 量：757產(chǎn)品分類(lèi)
Product Category詳細(xì)介紹
| 品牌 | 其他品牌 | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 環(huán)保,化工,電子/電池 |
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專(zhuān)用電子束光刻系統(tǒng)
自動(dòng)化、穩(wěn)定性和吞吐量
EBPG Plus 高性能納米光刻系統(tǒng)可在 100 kV 電壓下提供高達(dá) 8 英寸的能力。其全自動(dòng)化、高速和高分辨率可以為中心的操作以及半導(dǎo)體制造產(chǎn)生的光刻技術(shù)。
憑借其創(chuàng)新的架構(gòu)和具有吸引力的擁有成本，VOYAGER 納米光刻系統(tǒng)降低了高速電子束光刻的準(zhǔn)入門(mén)檻。
RAITH150 兩個(gè)直寫(xiě)工具提供超高分辨率 EBL 和出色的成像能力。亞 8 納米結(jié)構(gòu)可以在從幾毫米到 8 英寸晶圓的樣品尺寸上實(shí)現(xiàn)，而熱穩(wěn)定性即使在具有挑戰(zhàn)性的環(huán)境中也能支持最高性能。
多技術(shù)電子束光刻系統(tǒng)
靈活性、多功能性和 SEM 成像
這種多功能的多技術(shù)納米光刻系統(tǒng)將 EBL 系統(tǒng)與用于定制實(shí)驗(yàn)和工藝的開(kāi)放平臺(tái)相結(jié)合。eLINE Plus 具有一系列不同的選項(xiàng)，是通用的納米工程 EBL 系統(tǒng)。
EBL-SEM 混合系統(tǒng)將先進(jìn)的納米光刻和分析 SEM 成像結(jié)合在一個(gè)工具中。PIONEER Two 定義了一種新型的經(jīng)濟(jì)型專(zhuān)業(yè)電子束光刻系統(tǒng)，適用于納米加工和基于 SEM 的分析。
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