国产手机精品一区二区,业余 自由 性别 成熟视频 视频,一本大道无码人妻精品专区,久久久久成人片免费观看蜜芽

咨詢熱線

13810961731

當前位置：首頁  >  產(chǎn)品展示  >    >  沉積系統(tǒng)  >  FPD-PECVD 電漿輔助化學氣相沉積

FPD-PECVD 電漿輔助化學氣相沉積

簡要描述：FPD-PECVD 電漿輔助化學氣相沉積：隨著LCD面板和制造所需玻璃的尺寸的增加，其制造設(shè)備也變得更大，需要越來越大的設(shè)備投資。SYSKEY針對中小尺寸的需求開發(fā)串集的PECVD 設(shè)備，提供非晶矽（a-Si），氧化矽（SiOx），氮氧化矽（SiON），氮化矽（SiNx）和多層膜沉積。

  • 產(chǎn)品型號：
  • 廠商性質(zhì)：經(jīng)銷商
  • 更新時間：2024-07-10
  • 訪  問  量：680

詳細介紹

品牌其他品牌應(yīng)用領(lǐng)域環(huán)保,化工,電子/電池

image.png

FPD-PECVD 電漿輔助化學氣相沉積

隨著LCD面板和製造所需玻璃的尺寸的增加，其製造設(shè)備也變得更大，需要越來越大的設(shè)備投資。SYSKEY針對中小尺寸的需求開發(fā)串集的PECVD 設(shè)備，提供非晶矽（a-Si），氧化矽（SiOx），氮氧化矽（SiON），氮化矽（SiNx）和多層膜沉積。

FPD-PECVD 電漿輔助化學氣相沉積

應(yīng)用領(lǐng)域

  • 非晶矽前驅(qū)物（a-Si）。

  • 氮化矽 (SiNx)。

  • 氧化矽，矽烷基(SiOx)。

  • 氧化矽，TEOS (SiOx)。


配置和優(yōu)點選件

  • 客製化基板尺寸最大為550 x 650 mm2(玻璃)。

  • 優(yōu)異的薄膜均勻度小於±3％。

  • 每個製程腔內(nèi)最多可加裝7組氣體管線。

  • 遠程電漿進行腔體清潔。

  • 穩(wěn)定的溫度控制，可將基板加熱到380°C。

  • Cassette傳送站。

  • TEOS沉積製程。

  • OES、RGA或製程監(jiān)控的額外備用端口。



產(chǎn)品咨詢

留言框

  • 產(chǎn)品：

  • 您的單位：

  • 您的姓名：

  • 聯(lián)系電話：

  • 常用郵箱：

  • 省份：

  • 詳細地址：

  • 補充說明：

  • 驗證碼：

    請輸入計算結(jié)果（填寫阿拉伯數(shù)字），如：三加四=7